压印光刻

压印光刻是一种制造各种纳米到微米级结构的技术,低成本,可靠性高。

将一块印模放在基材上与感光材料接触,实现复制。胶填充压模的三维结构,然后在紫外光的作用下固化。图案、结构解析和模具等因素对该过程有很大的影响。

压印光刻能够与传统的半导体生产工艺兼容,在 DFB 激光器,高亮度 LED,晶圆级相机和微机电系统等组件的开发和生产中起到了非常关键的作用。

苏斯公司(SÜSS MicroTec)基于手动光刻机所开发的压印光刻解决方案,能够处理各种材料及最大 200 mm 的基板。如果要求多道压印工序并行,则能够将基板和压模精确对准。压印装置可便捷地加装在 SÜSS 光刻机上。

苏斯公司根据工艺要求,在其光刻机上采用不同的压印技术:

UV-NIL:高分辨率纳米压印

UV-NIL:高分辨率纳米压印

UV-NIL(紫外纳米压印光刻)是一种典型的压印技术,可对小于 50纳米的样板结构进行完美压制。它将结果形状复制在硬石英玻璃压模上,压模与基板上的紫外光刻胶接触。可对压力、工序间隔、时间等工艺参数进行精确控制和设置。

UV-NIL 技术在苏斯公司的三种压印技术中,分辨率是最高的,对各种研发设备都适合。 

亮点

  • 两位数纳米级的分辨率(< 50 纳米)
  • 通过配方编辑器控制工艺参数
  • 操作便捷
  • 余胶厚度均匀 

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SCIL:软模纳米压印

SCIL:软模纳米压印

软模压印技术应用于特别高要求的压印工艺。这种技术采用一个软压模与一个硬的柔性玻璃承载板结合的形式,不仅能够保证接触均匀,而且还可以对结构精确复制。

这种压印是通过毛细管力,而不是通过压力工作,从而降低了接触期间的结构变形。顺序接触可避免产生气穴,从而提高产出率和产量。

SCIL 技术复形精确,均匀度高,可满足各种采用高端蚀刻掩模的工艺高要求,例如光学元器件、微机电系统/纳米机电系统、高亮度 LED、垂直腔表面发射激光器的制造等。

SCIL 技术是与飞利浦研究院联合开发的成果。 

亮点 

  • 200 mm 整体压印
  • 高分辨率(<70 纳米)
  • 高对准精度(± 1 微米)
  • 压模寿命长 

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SMILE:微米级和纳米压印

SMILE:微米级和纳米压印

在微米级和纳米压印领域,苏斯公司拥有独特的 SMILE(苏斯压印光刻设备)技术。

两种工艺的区别在于预期分辨率。

对于微结构的成像,采用的是在基材中央涂覆感光聚合物的方法。光刻胶均匀分散在整个表面上,充满压模的空腔。通过封闭式反馈回路主动控制工序间距的准确位置,从而在使用余胶厚度情况下达到最稳定的可靠性。 

对于纳米结构的成像,采用的是柔性压模。首先接触的是涂了胶的基片中部位置,然后随着工艺的进展逐渐进行径向延展。

无论是微结构还是纳米结构,这种工艺都能够达到精确成像,应用非常广泛,工艺灵活性非常高。例如,SMILE 可用于生产微机电系统、光学镜片等。 

亮点

  • 精确控制胶层的厚度和均匀性
  • 可双面复形
  • 高校准精度(+/- 1 微米)
  • 可用于光学镜片晶圆的堆叠和紫外光键合
  • 从边缘抓取或者使用缓冲晶圆,避免接触到活性表面
  • 可抓取弯曲晶圆

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