MA/BA6 (Gen2)

利用纳米压印技术，增强SUSS MA/BA6光刻机的性能

特征与优点

  • 压印分辨率高达50纳米
  • 新型的紫外纳米压印光刻UV-NIL工具套装，可在用户现场轻松安装至SUSS MA/BA6光刻机
  • 在紫外光刻和纳米压印光刻之间轻松、快速互换

MA/BA6光刻机现在只需安装一个新的选件，即可优化单层UV-NIL压印的光刻效果。MA/BA6压印技术支持多种材料，如紫外光固化树脂、光刻胶、聚合物。

SUSS MicroTec的UV-NIL增强型光刻机可压印的胶厚为0.1微米到几百微米，分辨率可达几纳米（取决于模版）。原位单面或双面对准，可选用特定的紫外固化波长。尤其适用于模版为石英之类可透紫外光的材料。在没有透光模版的情况下，可用硅或镍板，则晶圆片必须可透紫外光。因此，硅或镍等不透光模版也适用于可透紫外光的晶圆片。

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