光刻机
无以匹敌的精确性用于薄膜和厚膜光刻
SUSS MicroTec光刻机已经成为卓越性能、高对准精度和精密曝光光学系统的代名词。SUSS MicroTec提供完整的光刻机产品线，可用于高端自动化代工厂，量产生产线和研发实验室等各种场合。SUSS MicroTec所设计的光刻机满足MEMS、先进封装、三维封装、化合物半导体、功率器件、太阳能、纳米技术和晶圆片级光学系统等领域的光刻需求。
SUSS MicroTec光刻机可处理从碎片到300mm的各种尺寸、形状和厚度的晶圆片。这些光刻设备可以针对多种应用进行多方面的性能配置，可以设计并达到亚微米级的分辨率和套刻精度。
自动光刻机
MicroTec光刻机在卓越的对准精度下，通过达到最高产率，以提供最好的经营成本。将最先进的图形识别技术和优秀的曝光结果融合在一起，通过产品各个不同方面的改进，实现光刻机优化，提高自动化水平。
MA300 Gen2 (最大300mm)
MA200Compact (最大200mm)
MA150e (最大150mm)
MA100/150e Gen2 (最大150mm) for HB-LED
手动光刻机
针对科学研究和工业界研发设计，也可以用于基于操作员的生产活动。该产品用于快速和有效的新技术、新产品的开发，也用于其他新兴应用，如NIL（紫外纳米压印）、SCIL（衬底保形压印）、NFH（近场全息光刻）、键合对准、模版对准、晶圆片级微透镜阵列紫外复制和紫外键合（SMILE）
MJB4 (最大4英寸)
MA/BA6 (最大6英寸)
MA/BA8 Gen3 (最大8英寸)
相关产品：键合对准机BA6/BA8 | BA8 Gen3
集成光刻一体机
SUSS光刻一体机集成了涂胶、烘烤、曝光和显影模块，特别适用于化合物半导体、晶圆片级封装和MEMS应用中的大规模生产。
LithoPack300 (最大300mm)
LithoFab200 (最大200mm)