MA/BA6

 

特征与优点

 

  • 准确的高精度间距设置，可实现更高的良率
  • 工艺参数可存储调用，节省再设置的时间并提高工艺的一致性
  • 高质量的曝光系统：采用低衍射镜头，可实现高分辨率和极佳的厚胶边缘质量
  • 高亮度光源，可减少工艺时间
  • 智能曝光控制单元，可显示光源强度与寿命

SUSS的MA6型掩模对准光刻机被认为是从半导体亚微米技术研究到三维微系统生产的全行业技术标杆。这套创新的系统可以满足客户对精度、可靠性和低成本的要求。

功能强大的MA6可选装背面对准显微镜，该显微镜可帮助完成准确的背面工艺。背面对准目前已经是一个重要的技术手段，特别是在微系统技术领域拥有重要的应用。

标准的光刻和正面对准采用目镜或双视频显微镜模块就可以完成。采用低衍射曝光系统后，除了可以进行高分辨率的标准光刻应用外，MA6掩模对准光刻机还可以完成以下特殊的技术：

  • 键合对准
  • 近场全息光刻,
  • 紫外加工工艺
  • 紫外固化纳米压印等

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