MA/BA8的一台设备可以为客户提供六套工艺解决方案：

第三代MA/BA8掩模对准光刻和对准键合集成系统是SUSS MicroTec手动对准平台的最新成果，可用于工业化研究和人工辅助的生产环境。MA/BA8是全场光刻技术的新标杆，可用于MEMS、先进封装、三维集成和化合物半导体等市场。此外，它还可以实现多种技术，例如紫外固化纳米压印、紫外键合、晶圆级微镜压印和组装等。

由于手动对准平台可以很轻松地处理所有类型的基片，因此它们在生产中的应用也日益增加。基于新的MA/BA8平台，SUSS MicroTec完全可以满足对工艺控制和良率越来越高的需求。MA/BA8是一个功能强大的系统，可用于研发和人工辅助操作的生产环境。此外，它还可以简便快速地进行技术更新和升级。