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- 苏斯贸易（上海）有限公司: MA200 Compact
MA200 Compact
特征与优点
- 对准精度：0.5微米 （直接对准）
- 晶圆尺寸：最大200毫米
- 分辨率：3微米（接近式）/0.8－1微米（真空接触）
- 背面对准
- 产率：>100片/小时（包括自动对准）
MA150/200Compact型是新一代生产型全场光刻系统。这种新的生产型光刻平台可以提供更高的图形覆盖准确性，更强的晶圆处理灵活性，包括拒绝、缓冲晶圆盒的模块和SECS II/GEM功能。
新的直接对准系统可以实现优于0.5微米的对准精度。这将提高工艺窗口，满足大量应用，例如厚胶倒装焊凸点、晶圆级封装应用、MEMS、纳米技术和通讯器件等应用。
