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MJB4
4英寸手动掩模对准光刻机
特征与优点
- 高分辨率掩模对准光刻，特征尺寸优于0.5微米
- 可处理基片尺寸：最大直径为4英寸的圆片，最大面积为4英寸×4英寸的方片
- 特殊的基片卡盘，可用于碎片、III-V 族材料、厚片、混合和高频元件
- 高精度的X、Y、Q方向对准平台和显微镜调节器
- 高强度光学系统，最大光强为90 mW/cm²，可用于不同波长的紫外曝光
SUSS的MJB4是广受欢迎的手动掩模对准光刻机MJB3的全新换代产品。它是理想的经济型工具，适用于实验室研究和小批量生产使用。在接触曝光模式下，分辨率可达0.5微米，性能明显优于同类型的其它设备。
MJB4系统可广泛用于MEMS和光电子应用中。它经过特殊设计，方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料，包括砷化镓和磷化铟。该设备可装配SUSS的单一场显微镜，也可选装可实现快速准确对准的场分割显微镜。