Halbautomatischer Mask Aligner und Imprint
Der MA12 Gen3 ist ein halbautomatischer Mask Aligner für Wafer bis zu 300 mm, der bewährte Lithografie mit fortschrittlicher Imprint-Verarbeitung kombiniert. Er bietet kosteneffiziente Belichtung, hohe Overlay-Genauigkeit und Prozessflexibilität für MEMS, Advanced Packaging und F&E.
Der MA12 Gen3 bietet vielseitige Lithografie-Funktionen, die sowohl für die industrielle Forschung und Entwicklung als auch für mittlere bis große Produktionsumgebungen geeignet sind. Sein kompaktes Design spart Platz im Reinraum, während die intuitive Handhabung die Bedienung vereinfacht. Der Mask Aligner ist mit der neuesten Technologie von SUSS ausgestattet und gewährleistet stabile, qualitativ hochwertige Ergebnisse und verbesserte Funktionen für Standard-, Advanced- und High-End-Prozesse.
Die kompakte Grundfläche des MA12 Gen3 spart kostbaren Platz im Reinraum und bietet gleichzeitig eine benutzerfreundliche Bedienung. Die leicht zugänglichen Komponenten, die LED-Lichtquelle und die bewährte SUSS MO Exposure Optics® minimieren den Wartungsaufwand, während die Fernwartungsfunktion eine schnelle und kostengünstige Problemlösung gewährleistet.
Außergewöhnliche Leistung bei anspruchsvollen Anwendungen
Der MA12 Gen3 maximiert die Ausbeute und gewährleistet reproduzierbare Ergebnisse auch unter schwierigen Bedingungen. Von der verbesserten Nivellierung und MO-Belichtungsoptik bis hin zur speziellen Handhabung für verzogene Wafer und empfindliche Materialien ist jedes Merkmal auf Zuverlässigkeit und Leistung ausgelegt.
Suchen Sie weitere Details? Bitte klicken Sie unten, um das technische Datenblatt und unsere Produktpräsentation mit ausführlichen Produktinformationen herunterzuladen.
