Vollautomatischer Mask Aligner

MA300 Gen3 Mask Aligner

Der MA300 Gen3 ist das Flaggschiff unter den Mask Alignern von SUSS für 200 mm und 300 mm Wafer. Er wurde für das Advanced Packaging entwickelt und kombiniert Submikrometer-Justage mit flexiblen Topside-, Bottomside- und Infrarot-Optionen. Von TSVs bis hin zu RDLs und Bumping bietet er hohe Präzision und einen hohen Durchsatz bei der Verarbeitung von Dicklackanwendungen, die über die Möglichkeiten von Steppern hinausgehen.

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Technische Präzision, effektiver Durchsatz

Der MA300 Gen3 kombiniert Kosteneffizienz, Präzision im Submikrometerbereich und hohe Prozessflexibilität. Bewährte Proximity-Lithografie, fortschrittliche Ausrichtung und automatisierte Handhabung sichern Ertrag und Produktivität für hochvolumige Fabriken sowie anspruchsvolle F&E-Umgebungen.

Kosteneffiziente Lithographie

Die Annäherungsbelichtung kombiniert Geschwindigkeit, Präzision und hervorragende Kosteneffizienz. Sie ermöglicht qualitativ hochwertige Mikrostrukturen zu einem Bruchteil der Kosten von Projektionssystemen und ist damit die Methode der Wahl für fortschrittliche Verpackungen und die Herstellung hoher Stückzahlen.

 

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Vielseitiger Anwendungsbereich

Vom Wafer-Level-Packaging und Flip-Chip-Bumping bis hin zu MEMS, LEDs und Leistungshalbleitern passt sich der MA300 Gen3 nahtlos an verschiedene Anwendungen an. Dank seiner Flexibilität eignet er sich gleichermaßen für die Großserienproduktion und die industrielle Forschung und bietet Herstellern eine Plattform für ein breites Spektrum von Prozessen.

Bewährte Proximity-Technologie

Auf der Grundlage jahrzehntelanger Erfahrung von SUSS überträgt die Proximity-Lithografie Strukturen mit höchster Präzision und vermeidet dabei Einschränkungen bei der Tiefenschärfe. Diese bewährte Belichtungsmethode bietet eine robuste und wiederholbare Leistung und ermöglicht stabile Ergebnisse in anspruchsvollen Prozessen, von dickwandigen MEMS bis hin zu Fine-Pitch-Packaging.

Höchste Ausrichtungspräzision

Für anspruchsvolle Overlay-Anforderungen bietet der MA300 Gen3 DirectAlign® mit dem Industriestandard PatMax. Durch die Verwendung von Live-Bildern anstelle von gespeicherten Mustern wird eine Ausrichtungsgenauigkeit von bis zu 0,5 µm auf der Oberseite erreicht, wodurch eine außergewöhnliche Prozessstabilität und Wiederholbarkeit gewährleistet wird, die ideal für hochvolumige Anwendungen ist.

Kontrollierte lokale Prozessumgebung

Eine optionale SUSS-Filtereinheit schafft eine versiegelte Mini-Umgebung im Inneren des Aligners, unabhängig von Reinraumschwankungen. Durch weniger Partikel und eine höhere Luftstabilität verbessert sich die Prozesskonsistenz, die Fehlerquote sinkt und die Produktqualität steigt - das hilft den Fabriken, Nacharbeit und die Gesamtproduktionskosten zu senken.

Das Flaggschiff unter den Mask Alignern für Advanced Packaging

Hauptmerkmale des MA300 Gen3 Mask Aligner

Der MA300 Gen3 wurde für fortschrittliches Packaging entwickelt und bietet seine Leistung durch DirectAlign®-Genauigkeit, MO Exposure Optics® und flexible Ausrichtungsmodi. Mit seiner robusten Dickschichtfähigkeit bietet er die technische Grundlage für stabile, reproduzierbare Ergebnisse über ein breites Prozessspektrum.

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DirectAlign® Präzision

Die Ausrichtungsgenauigkeit von 0,5 µm auf der Oberseite mit DirectAlign® und die erweiterten Funktionen der SUSS-Software zur Strukturerkennung bieten eine hervorragende Overlay-Leistung für anspruchsvolle Produktionsanforderungen.

Ein System, jede Anwendung

Vom 3D-Packaging und Wafer-Level-Bumping bis hin zu MEMS, LEDs und Leistungsbauelementen passt sich der MA300 Gen3 nahtlos an verschiedene Anwendungen an. Die Proximity-Lithografie vermeidet die Grenzen der Tiefenschärfe und ermöglicht die stabile Belichtung sehr dicker Resistschichten jenseits der Möglichkeiten eines Steppers.

Flexible Ausrichtungsoptionen

Unerreichte Vielseitigkeit: Wählen Sie zwischen Topside-, Bottomside- oder Infrarot-Ausrichtung, um dünne Wafer, undurchsichtige Substrate und doppelseitige Strukturen mit Leichtigkeit und Zuverlässigkeit zu bearbeiten und selbst anspruchsvollste Anwendungen zu meistern.

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