MaskTrack Pro

Für das Gelingen von hoch anspruchsvollen lithografischen Prozessen spielt die Unversehrtheit der Fotomaske eine große Rolle. Die automatisierte Anlage zur Fotomaskenbearbeitung MaskTrack Pro erfüllt alle Kriterien der nächsten Stufe der Lithografie-Roadmap im Hinblick auf Reinigungs-, Ausheiz- und Entwicklungsprozessen von Fotomasken. Seine innovativen Lösungen sind auf die hohen Anforderungen von 193i 1x half-pitch DPT, Extreme-Ultraviolet-Lithografie (EUVL) und Nanomprint-Lithografie (NIL). Innovative Verfahren zielen auf maximale Güte der eingesetzten Fotomasken.

MaskTrack Pro erlaubt eine Erweiterung zu Tool-Clustern mit Produkten von Drittanbietern und bietet damit einen gesamtheitlichen Ansatz für die Aufbewahrung, das Handling und die Verarbeitung von Fotomasken in einer vollkontrollierten und höchst reinen Umgebung. Die Modularität des Designs garantiert hohe Flexibilität und Anpassbarkeit auf Kundenwünsche. MaskTrack Pro liefert das beste Reinigungsergebnis bereits im ersten Durchlauf und gilt damit branchenweit als Plattform der Wahl.

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Highlights

  • Verkürzt die Zeit bis zur Markteinführung
  • Verlängert die Lebenszeit der Fotomaske
  • Erhöht die Betriebszeit des Scanners
  • Reduziert die Betriebskosten
  • Maximiert die Ausbeute

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