Coating
Es gibt verschiedene Methoden, um Substrate mit Photolack oder andere Materialien zu beschichten. Die mit Abstand am häufigsten verwendete Methode ist das Spin Coating. Dieses Verfahren wird verwendet, wenn die Wafer keine oder nur eine sehr geringe Oberflächenstruktur aufweisen. Bei Wafern mit einer stark strukturierten Oberfläche kommt hingegen Sprühbelacken als Verfahren zum Einsatz.
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