Entwickeln

Einer der kritischsten Prozessschritte während eines üblichen fotolithografischen Prozesses ist die Entwicklung des belichteten Fotolacks. Verschiedene Parameter, wie beispielsweise Temperatur und Entwicklungszeit, beeinflussen die Geometrie der kritischen Strukturen und die Form ihres Profils. Aus diesem Grund muss besondere Sorgfalt auf die Auswahl des Entwicklungsprozesses und dessen Parameter gelegt werden. Aufgrund ihrer technologischen und ökonomischen Vorteile sind Sprüh- und Puddle- Entwicklung die in SÜSS MicroTec Geräten bevorzugt angewendeten Technologien.