Imprint Lithografie

Auflösung unter 50 nm zu geringen Kosten

Die Nanoimprint-Lithografie (NIL) ist eine vielseitige Schlüsseltechnologie für Produktionstechnologien im Nanobereich und Bestandteil des ITRS Lithografie-Fahrplans von 2003 im Hinblick auf die Machbarkeit von Strukturbreiten von 32 und 22 nm. Weitere Anwendungen sind magnetische Speichertechnologien (patterned media), Sensoren, hocheffiziente LEDs, VCSELs und andere optische Bauteile.

Bei der Replikation von Strukturen im Nanometerbereich von einem Master-Stempel hat sich diese Technologie als besonders effektiv erwiesen. Die Zuverlässigkeit des Replikationsprozesses hängt dabei von der Fähigkeit ab, einen entsprechenden maßhaltigen Master-Stempel herzustellen.

NIL hat sich bereits bei Auflösungen von unter 50 µm bewährt, und das bei vergleichsweise niedrigen Kosten. Es kann deshalb erwartet werden, dass diese Technologie eine führende Rolle bei der Kommerzialisierung von Nanostrukturen spielen wird.

Die Ausrüstung von SÜSS MicroTec unterstützt neuartige, Kosten sparende Mikro-/Nanoreplikationstechnologien wie UV-Nanoimprinting für kleine oder große Flächen.