SCIL

Die neue Technologie für großflächige Prägeprozesse

Die SCIL-Technologie (Substrate Conformal Imprint Lithography) vereint die Vorteile eines weichen Stempels zur Reproduzierung großflächiger Strukturen mit denen eines starren Glasträgers, durch welchen die sehr hohe Auflösung und geringe Strukturdeformationen gewährleistet werden.

Das angewendete Prägeprinzip von SCIL ist sequentiell; Indem der Stempel schrittweise von der Startseite über die gesamte Prägefläche mit dem Substrat in Kontakt gebracht wird, ergibt sich ein wellenförmig voranschreitender Prägeverlauf. Somit werden sogar auf großen Flächen Lufteinschlüsse minimiert und dadurch höchste Gleichmäßigkeit erreicht.

Durch die sequentielle Trennung von Stempel und Substrat werden die auf das Substrat einwirkenden Kräfte gering gehalten, und somit eine saubere und zuverlässige Trennung ohne Beschädigung der gemusterten Strukturen gewährleistet.

Die ausgezeichneten Fähigkeiten des Prozesses bezüglich Gleichmäßigkeit, Formtreue und Maßhaltigkeit auf großen Flächen unterstreicht die Eignung der Technologie, insbesondere für Anwendungen wie z.B. im Bereich von LED / VCSEL-optische Elemente.

SCIL wurde im Rahmen einer Kooperation zwischen Philips Research und SÜSS MicroTec entwickelt und adressiert Applikationen, für die großflächige Vollfeld- und substratkonforme Nanoprägungen gefordert werden. Das SCIL Toolkit kann in die SÜSS MicroTec Labor-Aligner-Plattformen MA/BA6 und dem MA/BA8 Gen3 auch vor Ort installiert werden.

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