Erhaltung einer reinen Oberfläche

Eine lange Lebensdauer der Fotomaske verringert die Cost-of-ownerschip (CoO) des Kunden. Dazu sollte die Oberfläche der Maske nach der Reinigung möglichst lange sauber gehalten werden. Dieser Faktor  wird noch wichtiger bei einem Einsatz in der EUV-Lithografie, in der die Kompatibilität des Scanner eine große Rolle spielt und jeglicher Ausfall des Belichtungsgerätes aufgrund von Kreuzkontamination vermieden werden sollte.

Prozesse zur Erhaltung einer reinen Oberfläche im Anschluss an die Nassreinigung zielen auf die Entfernung von Restbeständen an organischen und anorganischen Ionen ab, die immer noch in die Oberfläche eingebettet sind und eine Trübung wie auch molekulare Feuchtigkeit verursachen.

SÜSS MicroTec’s Anlagen zur Fotomaskenreinigung bieten eine Reihe von Nachbehandlungsmöglichkeiten. Je nach Substrattyp und Anforderungen kommen entweder Baking bei Hochtemperatur, sanftes RTP (“rapid thermal processing”), die eine IR-Belichtungsmethode im Vakuum darstellt, oder eine Belichtung mit 172nm UV-Licht zum Einsatz, um eine intakte Struktur der Fotomaske sicherzustellen.

Davon profitieren unsere Kunden

  • Technologien, die den spezifischen Anforderungen der verschiedenen Fotomaskentypen entsprechen

Prozesstechnologien

EquipmentProzesse
MaskTrack® Pro      Lack-Stripping, Nassreinigung Oberflächenaufbereitung, Erhaltung von reinen Oberfläche