MA/BA6 (Gen2)

Erweiterung Ihres MA/BA6 Mask Aligners um Nanoimprint Technologien

Für die MA/BA6 Mask Aligner von SÜSS MicroTec sind optionale Erweiterungen für die Nanotechnologie erhältlich. Die Vereinigung von zuverlässiger, vielseitiger Mask Aligner-Technologie mit UV-NIL- und UV-Replizierungs-Technologien ermöglicht eine wirtschaftliche und innovative Komplettlösung für die Forschung und Entwicklung mit schneller, einfacher Wechselmöglichkeit von der UV-Standardlithografie zum Nanoimprinting. Verschiedenste Stempel- und Substratgrößen stehen zur Verfügung für optimale Ergebnisse bei einfachen UV-NIL Imprint-Anwendungen.

Weitere Informationen zu diesem Thema erhalten Sie auf unserer MA/BA6 Mask Aligner Webseite.

Produktvorteile

  • Nanoimprinting-Aufrüstsatz erhältlich für:
    • UV-NIL-Anwendungen mit kleinem, hartem Stempel
    • Großflächige SCIL-Anwendungen mit weichem Stempel mit hoher Auflösung und hervorragender Wiederholgenauigkeit
  • Ermöglicht Geometrien bis unter 50 nm

Technologien

Fotogalerie

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Informationsmaterial

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