Nassprozess-Systeme

Innovative Nassprozessierung für Ihre F&E und Produktion

SÜSS MicroTec bietet eine Vielzahl an Nassprozessen für wasser- oder säurebasierte Chemie. Mit einer großen Palette an Spendesystemen wie Puddle- oder Strahlspender, Sprüh- und Hochdruckdüsen können die Prozessmodule für zahlreiche Applikationen wie Fotolackentwicklung, Metall-Lift-off, Reinigung oder Resist-Stripping konfiguriert werden. Weitere optionale Ausstattungsmerkmale wie punktgenaue Temperatursteuerung, Filtrierung und Wiederverwertung der Medien reduzieren den Medienverbrauch bei und ermöglichen  eine  optimale Kontrolle ihrer Betriebskosten.

Automatische Spin- und Sprühbelacker

Hoher Automatisierungsgrad, modular aufgebaute Spin- und Sprühbelacker für Wafer bis 300 mm, 3D-Integration, Wafer Bumping, Wafer Level Packaging, MEMS, Verbindungshalbleiter.

Gamma (bis zu 200mm)
ACS200Plus (bis zu 200mm)
ACS300 Gen2 (bis zu 300mm)

Manuelle Nassprozess-Systeme

Die Delta-Serie bietet eine Vielzahl an Nassprozessen wie Sprühentwicklung, Lift-off oder Puddle-Entwicklung. Für F+E, Universitäten und Startups und ihre Applikationen in den Bereichen MEMS, Wafer Level Packaging, 3 D-Integration und Verbindungshalbleiter stellen die Delta-Systeme die ideale Ausrüstung dar.

Delta 12AQ (bis 300mm)
Delta 12L (bis 300mm)

Sie benötigen weitere Informationen?