SCIL 高解像度 大面積インプリント技術

新たに開発されたSCIL(Substrate Conformal Imprint Lithography) は､サブ50nmパターニングが可能な新インプリント技術で、小型ハードスタンプを用いた高解像度NILと、200nm程度までの解像度を対象にした大面積ソフトスタンプによるインプリントとの間をカバーするものです｡SCILは､ナノインプリントを必要とする大面積基板等を対象に、Philipsとズース・マイクロテックが共同開発しました。コンタクト時に大きな加重を必要としない方式であるためスタンプの変形なしに大面積ソフトスタンプによるインプリントを可能にしています｡UV照射不要､室温キュア可能で、アスペクト比1:5もしくはそれ以上に対応することができます｡

研究開発向けプラットフォーム　ズースMA6とMA8は､それぞれ150mmと200mmウエハサイズまでのUVリソグラフィを実現しています。

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Nano-Gratings Creation of a wire-grid polarizer by etching of an aluminum layer while using the Sol-Gel imprinted layer as an etch mask. Courtesy Philips Research

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Photonic Crystals 2-D photonic crystal imprinted on GaN and subsequently etched into the material. Courtesy Philips Research

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BPM Bit, Patterned Media for Next Generation HDD SCIL is capable of reproducing < 30 nm features in Sol-Gel layers. Courtesy Philips Research

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Microlenses SEM picture showing the good replication of microlenses. Courtesy Philips Research and SUSS MicroOptics

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