UV-NILは､UV硬化型樹脂を使用した低コスト生産対応に適した技術です｡サブ100nmの造形が可能な高解像度eビームリソグラフィー技術の廉価版として開発された技術です｡UV-NILソリューションは、半導体､MOEMS、NEMSやオプトエレクトロニクスにおいて次世代技術となる可能性を秘めています｡新MA/BA8片面UVインプリントツールはフィールドでのアップグレードが容易で、既存のズース マスクアライナをお持ちのお客様を、直ちにナノの世界へご案内いたします。ズースUV-NILインプリンティング技術は､UV硬化樹脂､フォトレジスト、ポリマーといった多様な材料に対応しています｡

• Brochure UV NIL 110127
• UV-NIL Upgrade Datasheet