フォトリソグラフィ 標準・薄膜・厚膜フォトレジスト

次世代レジスト対応装置

ズースのリソグラフィシステムは、コスト、柔軟性、使い易さに優れており、薄膜から厚膜レジストまでの広範囲に対応できる魅力的なソリューションです。標準レジストの量産用途、厚膜レジストや数百μmレンジのトポグラフィに最適です｡特にMEMS､3次元積層、ウエハレベルパッケージングにおけるBCBや感光性ポリイミド等のポリマーを用いたリソグラフィで卓越した結果を実現します｡

プロセス材料は解像度限界に直接影響を及ぼすので、レジストメーカーは化学増幅型のレジストを開発し、ズースのコータとマスクアライナは､最も厳しい要求に応えるために開発された材料に対しても、非常に優れた結果を得ています｡

プロセス詳細

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