ナノインプリントリソグラフィ

マイクロエレクトロニクスや関連デバイスにおける微細形状のレプリカ製造で最も新しく且つ注目を集めている技術がインプリントリソグラフィです。この方式では、マスターパターンまたはスタンプが型形成される材料に押し付けられた後、UV照射または熱により材料を硬化させることでマスター形状が材料に正確に転写されます。従来から殆どのマイクロエレクトロニクスの印刷に使用されてきたUVリソグラフィとの違いは、インプリントリソグラフィが、XY面印刷だけでなく垂直方向に構造形状を転写できる点です。

インプリントリソグラフィでは、マイクロスケールからナノスケールまでの形状転写が可能です。マイクロスケールでの代表的アプリケーションは、デジタルカメラで使用されているマイクロレンズがあります。このプロセスではUV硬化型樹脂に8インチサイズ一括で裏面補強されたフレキシブルスタンプを用いてインプリントされています。透明なスタンプを被転写材に対し位置合わせした後に、従来のUV印刷と同様、UVを照射して樹脂やポリマー材を硬化させZ方向の形状も含め転写します。

ナノインプリンティングは、数ナノメートルレベルという現在で最も微細な加工を行うことが出来ます。この場合、1インチ角サイズ程度のクォーツや金属製ハードスタンプを用いて、ステップ&リピート方式でウエハ全面に順次パターン転写を行います。

ズースが提供する新技術SCIL(Substrate Conformal Imprint Lithography)は、サブ50nmまでの微細構造を持った大面積ソフトスタンプ転写が可能となります。ソフトスタンプなので最大10:1アスペクト比までの微細構造を、スタンプから被転写材料に正確に形成できます。

パドル現像方式

パドル現像方式

このプロセスでは、露光された基板に所定量の現像液を塗布し、適度に回転させて配分します。その際、現像液の表面張力によって、基板上に現像液が溜まった状態 (英語で「Puddle」) になります。現像時間が経過した後、現像液は高速回転によりウエハから飛ばされます。そして、脱イオン水でウエハを洗浄し、再び高速回転によって乾燥します。この手法のメリットは、現像液が少量しか必要でないこと、そして良好な現像結果が得られることです。

パドル現像方式は、大量の現像済みフォトレジストを取り除く場合や、起伏が高いパターンによって現像液の入れ替えが妨げられる場合など、現像液の飽和時には適していません。このような場合には、多段式パドル現像方式またはスプレー現像方式が使用されます。

特色與優點

  • M化学品用量低

全自動設備

手動設備

* 本設備提供一系列濕化學過程的額外應用。

スプレー現像方式

スプレー現像方式

在噴霧式顯影期間曝光的基板會以低速旋轉。曝光區域會不斷覆蓋以剛噴灑上的顯影劑以免飽和。相對於浸置式顯影,噴霧式顯影具有可用於厚膜光阻以及進行大範圍顯影的優點。之後使用去離子水沖洗並持續乾燥旋轉便完成整個顯影過程。

特色與優點

  • 即使於厚膜光阻下亦能對整個晶圓均勻顯影。

全自動設備

手動設備

* 本設備提供一系列濕化學過程的額外應用。

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