ナノインプリントリソグラフィ

マイクロエレクトロニクスや関連デバイスにおける微細形状のレプリカ製造で最も新しく且つ注目を集めている技術がインプリントリソグラフィです。この方式では、マスターパターンまたはスタンプが型形成される材料に押し付けられた後、UV照射または熱により材料を硬化させることでマスター形状が材料に正確に転写されます。従来から殆どのマイクロエレクトロニクスの印刷に使用されてきたUVリソグラフィとの違いは、インプリントリソグラフィが、XY面印刷だけでなく垂直方向に構造形状を転写できる点です。

インプリントリソグラフィでは、マイクロスケールからナノスケールまでの形状転写が可能です。マイクロスケールでの代表的アプリケーションは、デジタルカメラで使用されているマイクロレンズがあります。このプロセスではUV硬化型樹脂に8インチサイズ一括で裏面補強されたフレキシブルスタンプを用いてインプリントされています。透明なスタンプを被転写材に対し位置合わせした後に、従来のUV印刷と同様、UVを照射して樹脂やポリマー材を硬化させZ方向の形状も含め転写します。

ナノインプリンティングは、数ナノメートルレベルという現在で最も微細な加工を行うことが出来ます。この場合、1インチ角サイズ程度のクォーツや金属製ハードスタンプを用いて、ステップ&リピート方式でウエハ全面に順次パターン転写を行います。

ズースが提供する新技術SCIL(Substrate Conformal Imprint Lithography)は、サブ50nmまでの微細構造を持った大面積ソフトスタンプ転写が可能となります。ソフトスタンプなので最大10:1アスペクト比までの微細構造を、スタンプから被転写材料に正確に形成できます。