ナノインプリントリソグラフィ

低コストでサブ50nm解像度のプリントを実現

ナノインプリントリソグラフィ(NIL)は、32/22nmノードで国際半導体（ITRS）のリソグラフィロードマップにも盛り込まれている、多用途のナノマニュファクチャリングテクノロジを実現します。この技術はテンプレートからナノメーターサイズ構造をレプリカするのに効果的な方法です。高信頼性のレプリカプロセスとはいえインプリントリソグラフィの解像度は、要求される寸法のマスターテンプレートの作製能力に左右されます。NILは既にサブ50nm解像度のデモを低コストで実施されており、ナノ構造の商業化において重要な役割を担うことが期待されています。ズース・マイクロテックの装置は、小面積や大面積への熱や紫外線によるナノインプリンティング、一括インプリンティングといった斬新でコスト効果の高いマイクロ/ナノレベルのレプリケーション技術をサポートします。