MA/BA6 (Gen2)

MA/BA6マスクアライナの機能拡張 ナノインプリントテクノロジを搭載

特長と利点

MA/BA6マスクアライナにUV-NILキットを搭載すると、UV-NIL一括インプリントの最適な結果が得られます。MA/BA6インプリントテクノロジは、UV接着、フォトレジストやポリマーといった様々な材料にも対応します。

UV-NILキットを搭載したアライナは、0.1ミクロン未満から数百ミクロンまでのレジスト膜厚にナノオーダーのインプリントが出来ます。In-situ表面/裏面アライメントとUV露光波長が選択できます。スタンプやモールドはクォーツ等の透明な材料が一般的です。透明なスタンプではない場合、シリコンやニッケル金属のスタンプが使われます。この場合、UV透過するウエハに限られます。

装置の詳細はMA/BA6マスクアライナをクリック

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