マスクアライナ
高精度 薄膜・厚膜アプリケーション
高品質、高精度、そして最も優れた露光装置といえばズースのマスクアライナです。ズース・マイクロテック社では、ハイエンドのファブオートメーショ ン、量産及び研究開発用のラインナップを揃えております。ズースの次世代マスクアライナは、最大300mmまでのウェハを処理します。また、スループット を大幅に向上させ、1μmの解像度とサブμmのオーバレイを実現、リソグラフィーコストを大幅に削減することが出来ます。
ズースのマスクアライナはその柔軟性と経済的な面で高価なステッパテクノロジーに代わり、MEMS・ウェハレベル・パッケージ・化合物半導体などに 最適なシステムとして注目されています。
Automated Mask Aligners
Provide best possible cost of ownership by achieving highest throughput at superior alignment accuracy. Combine state of the art pattern recognition with excellent print results. Different product enhancements available to further optimize and advance the level of automation.
MA300 Gen2 (up to 300mm)
MA200Compact (up to 200mm)
MA150e (up to 150mm)
MA100e Gen2 (up to 100mm)
Manual Mask Aligners
Designed for scientific and industrial research but also for use in operator assisted production. Enable quick and effective development of new technologies and products. Support also emerging applications like UV-NIL, SCIL, NFH, bond alignment, stencil alignment, wafer level microlens UV replication and UV-bonding (SMILE).
MJB4 (up to 4")
MA/BA6 (up to 6")
MA/BA8 (up to 8")
MA/BA8 Gen3 (up to 8")
Related Products:
Integrated Lithography Cluster
SUSS Lithography Clusters are integrated coat, bake, expose, develop solutions that especially used in volume production of components for compound semiconductor, wafer-level packaging or MEMS applications.
LithoPack300 (up to 300mm)
LithoFab200 (up to 200mm)
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