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LithoFab200
MEMSおよび化合物半導体デバイス用リソグラフィ・クラスタ
特長と利点
- 2インチ～200mmの基板のコーティング、ベーク、露光、現像のすべてを統合したクラスタ
- ドライ・ウエハをセットし、パターンの完成までを処理
- 高度な自動化によりオペレータ自身の操作が最小限で済むため歩留まりが向上
- MA200Compactプロキシミティ・マスクアライナ・ユニットの優れた露光性能により、ほとんどすべてのフォトレジスト材料に対応し、表面および裏面アライメントの圧倒的な精度を実現
- 構成とフローの柔軟性を備え、システムごとに複数のプロセスを実行することが可能
LithoFab200は、MA200CompactマスクアライナとACS200コータ/ベーク/デベロッパモジュールで構成された完全クラスタ化リソグラフィ・ソリューションです。 クラスタ・セルを自由に構成できるモジュール構造設計により、ユーザー独自のプロセスフローに従ってマシンのカスタマイズが可能です。 アライナおよびコータはいずれも、スタンドアロン・モードで独立したマシンとして実行することもできます。
LithoFab200は、特に、モノリシック・マイクロ波IC、半導体レーザ、IRセンサなど、広範な化合物半導体およびMEMSアプリケーション用コンポーネントの量産に使用されています。 また、このクラスタは、レトログレード・プロファイルの生成など、化合物半導体製造における固有なプロセスに対応するように設計されています。 その他、重要な機能として、ニオブ酸リチウムなどの焦電材料に関する活性イオン化利用ソリューションなども備えています。 このリソグラフィ・クラスタは、プロセス全体におけるマシン・ハンドリングの手順を少なくすることにより、GaAsやInPなどの脆弱な材料を専門的に扱うことができます。
