MA6

MA6　手動マスクアライナ(紫外線露光装置)

特長

MA6は、最大6インチまでの基板に対応した、サブミクロンレベルの半導体の研究開発及び3次元MEMS製造に最適な高性能手動マスクアライナです。当社の回折光減少光学系により、厚いレジストに対する高解像度を実現するとともに、パターン側壁の急傾斜形状を維持します。また、露光時間を短縮し処理能力をアップさせる、高照度露光光学系を装備しているので、例えば、プロジ

ェクション・アライナでは8分を要する感光ポリイミド30μmを、25秒で露光でき、 300μ厚までのレジストのアライメント／露光を可能としています。初期投資は、ステッパやプロジェクション・アライナと比較して少なく、保守も容易な、低CoOシステムです。オプションにより、裏面アライメントも可能です。

技術仕様概要

• ウェハサイズ 2インチ　～　150mm
• 基板サイズ 不定形小片～150mm角
• 解像度 
• UV400/標準光学系5μｍ（20μｍプロキシミティ）
• UV400HR/高解像度3μｍ（20μｍプロキシミティ）
• 光学系  
• 照度（g,h,i線　積算） 約20ｍW/c㎡(350W時）
  約55ｍW/c㎡(1000W時）
• 照度均一性 5％
• CIモード 照度一定モード
• 露光モード プロキシミティ（ギャップ1～300μｍ）、バキュームコンタクト、ソフトコンタクト、ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト
• アライメント精度 ±0.5μｍ(TSA)　TSA：表面アライメント <
  ±0.1μｍ(BSA)　BSA：裏面アライメント/オプション
• ギャップ調整　分解能 最大300μｍ
• 寸法/重量 930W×1000D×667Hmm

オプションリスト

• 光学系 UV400 LEGO（ラージギャップ用）
  UV300(約280～360nm付近）
• UV300/400（約280～450nm付近）
  UV250（約220～280nm付近）
• TSA顕微鏡 モニタ出力（TFT)
  AL-400（2重焦点深度切り替え機能）圧膜レジスト用
• 裏面アライメント BSA顕微鏡+BSA顕微鏡ステージ+EISS PC
• IRアライメント IRキット+BSA顕微鏡ステージ（+IR用顕微鏡類）
• OFアライメント OFアライメント用チャック

＊仕様は改良のため、予告なく変更される場合がありますので詳細は別途お問い合わせください。

• MA6/BA6 Brochure

• Training