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- Mask Aligner MA300 Gen2
MA300 Gen2
特長と利点
- 全面露光照度 90mW/cm2（ブロードバンド）
- エッジ部分まで100％露光可能(同時にEBR可能)
- 解像度3μm
- アライメント精度1μm、DirectAlignオプション 0.5μm(3σ)
- 3次元積層作製用 専用アライメントキット搭載可能
次世代MA300 は、300mmおよび200mm用に開発された全面一括露光式の紫外線露光装置です。ウエハ・バンピング、ウエハ・レベル・パッケージング用途向けに開発されたものですが、5～100μmの形状を形成する分野にも適しています。MA300は大量生産に適しており、最新のハイエンドファブで必要とされる項目を全て満たしたズース新世代のマスクアライナです。
0.5µm以下(DirectAlignオプション)の高精度な標準表面アライメントに加え、この新しい3Dアライメントプラットフォームでは裏面アライメントと赤外線アライメントを行うことが可能で、2つの新たな機能はTSV用エッチマスクやダイシングストリート、裏面再配分レイヤ(RDLs)、またはバンピングプロセスなどの3Dパッケージングリソグラフィ向けの300mm処理を高精度に行います。裏面アライメント機能はウエハ両面を処理でき、さらに赤外線アライメント機能では赤外線を透過する接着剤などの不透明な材料の取り扱い、特に厚膜ウエハやカプセル化用途での処理を可能にします。
ステッパーとは異なり、プロキシミティ・マスクアライナは厚膜層に対する露光に非常に優れています。投射システムでよく知られている焦点深度の制限がないため、マスクアライナは広範囲のプロセス処理に優れています。
