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MA200 Compact
MA200 Compact 量産用高速マスクアライナDirectAlignオプション
特長
MA200 Compactの優れたDirectAlignオプションのアライメント精度は0.5μm（3σ）であり、今日のマスクアライナでは他に類を見ない最高精度を誇ります。
MA200 Compactは、次世代の全面一括リソグラフィシステムです。他のマスクアライナには無い、より高精度のオーバーレイを提供します。フレキシビリティの高いロボット・ハンドラ・デザインにより、2個のカセット（オプションで4個）を使用することの出来るウエハ・ハンドリングを実現しました。システムは非常にコンパクトで、設置面積はわずか2.12㎡です。さらにSECSⅡ/GEM機能がオプションで設定可能です。
技術仕様概要
- ウェハサイズ 2インチ～200mm
- 基板サイズ 2インチ角～200mm角
- 解像度
- UV400/標準光学系5μm（20μmプロキシミティ）
- UV400HR/高解像度光学系 3μm（20μmプロキシミティ）
*UV400の波長域：350～450nm - 照度（g.h.i線 積算） 約57ｍW/c㎡（1000W時）
約120ｍW/c㎡（5000W時オプション） - 照度均一性 5%
- CDモード 積算露光量一定モード ±1.5％
- アライメント精度 0.5μm/3σ(TSA,AutoAL+DirectAlign)
1μm/3σ(TSA,Auto AL) - 1μm/3σ(BSA,Auto AL)
*裏面アライメントはオプション - アライメントステージ分解能 （X・Y)0.1μm
- アライメントステージ分解能（θ） 4.3x10-5度
- 露光ギャップ 最大999μm
- ギャップ調整 分解能 1μm
- プリアライメント精度 ±50μm 非接触型プリアライナ
- スループット 100wph
（弊社条件にて0.1sec露光+AutoAlignment) - 寸法/重量 1509Wx1405Dx2000Hmm / 1100kg
オプションリスト
- 裏面アライメント BSA顕微鏡+BSA顕微鏡ステージ
- ラージギャップ用 光学系 UV400 LEGO
- その他 光学系 UV300(320nm付近）、UV250（240nm付近）
- 各種フィルタ g, h, i線用各バンドパスフィルタ、
- 減光フィルタ等
- 4カセットシステム 4カセットステージ
- 各種 基板対応搬送システム エッジハンドリング、反り対応搬送システム
- 5000Wランプユニット LH-5000ユニット
708(W)x708(D)x1650(H)mm, 220kg - Run-Outずれ補正 Therm Alignチャック
- 多クロムエリアマスク用
- マスク移動システム LCMM型 マスクホルダ
- 非接触型 基板圧測定システムNCGSシステム（プリアライナステージ上）
- 自動フィルタ交換システム最大4枚
- PEB用 ホットプレート、最大8プレート（1000W時）
- クールプレート最大12プレート（5000W時）
- バーコードリーダマスクID用、カセット用（RF Tag)
- SECSⅡ/GEM
＊仕様は改良のため、予告なく変更される場合がありますので詳細は別途お問い合わせください。
