print «back

MA6

MA6　手動マスクアライナ(紫外線露光装置)

特長

MA6は、最大6インチまでの基板に対応した、サブミクロンレベルの半導体の研究開発及び3次元MEMS製造に最適な高性能手動マスクアライナです。当社の回折光減少光学系により、厚いレジストに対する高解像度を実現するとともに、パターン側壁の急傾斜形状を維持します。また、露光時間を短縮し処理能力をアップさせる、高照度露光光学系を装備しているので、例えば、プロジ ェクション・アライナでは8分を要する感光ポリイミド30μmを、25秒で露光でき、 300μ厚までのレジストのアライメント／露光を可能としています。初期投資は、ステッパやプロジェクション・アライナと比較して少なく、保守も容易な、低CoOシステムです。オプションにより、裏面アライメントも可能です。

技術仕様概要

オプションリスト

＊仕様は改良のため、予告なく変更される場合がありますので詳細は別途お問い合わせください。