マスクアライナ

高精度　薄膜・厚膜アプリケーション

高品質、高精度、そして最も優れた露光装置といえばズースのマスクアライナです。ズース・マイクロテック社では、ハイエンドのファブオートメーション、量産及び研究開発用のラインナップを揃えております。ズースの次世代マスクアライナは、最大300mmまでのウェハを処理します。また、スループットを大幅に向上させ、1μmの解像度とサブμmのオーバレイを実現、リソグラフィーコストを大幅に削減することが出来ます。

ズースのマスクアライナはその柔軟性と経済的な面で高価なステッパテクノロジーに代わり、MEMS・ウェハレベル・パッケージ・化合物半導体などに最適なシステムとして注目されています。

量産用マスクアライナ

MA300 Gen2

ウェハ：200mm及び300mm› read more...
MA200Compact

ウェハ：2インチ～200mm
要求により角形基板› read more...
MA150e

ウェハ：最大150mm及び200mm
要求により角形基板› MA150e...

手動/セミオートマスクアライナ

NFH Option

MA/BA8 Gen3

ウエハ：最大200mm
基板：最大200×200mm› read more...
Near Field Holography Optionfor manual Aligners

For the creation of optical gratings pitch between 200 and 600nm grating constants down to 200 nm › read more...