Lithography Solutions

光罩對準曝光機

高精準度且適用於薄膜與厚膜應用

SUSS MicroTec光罩對準曝光機已成為優質效能、精確對準及精密曝光光學的代名詞。SUSS MicroTec提供的完整光罩對準曝光機系列,可供自動化、大量生產的高階晶圓廠及研發實驗室等各種環境使用。SUSS MicroTec設計的光罩對準曝光機,適合MEMS、先進封裝、3D封裝、化合物半導體、電力裝置、太陽能光電、奈米科技及晶圓級光學領域內的微影應用。

SUSS MicroTec光罩對準曝光機可處理從小片到300mm晶圓片的各種尺寸、形狀及厚度進行加工,亦可使用符合各種不同應用,且專為達成次微米解析及覆蓋而設計的功能設定系統。

Automated Mask Aligner

Manual Mask Aligner

Manual Bond Aligner