MA100/150e Gen2

提高化合物半導體產量之專用光罩對準曝光機解決方案

SUSS MicroTec專為化合物半導體製程所設計的光罩對準曝光機 MA100/150e Gen2，能處理高亮度 LED (HB-LED)、功率元件、RF-MEMS 等重要的化合物半導體製程。MA100/150e Gen2 具備高度精準的對準功能，可為易碎、翹曲、透明的晶圓，進行客製化基材處理，還可輔以高達 0.7µm 的高解析度光學系統，使 MA100/150e Gen2 可解決LED製程上目前的難題，協助您進一步縮減製程成本及提高生產效率，並克服 LED 製程上的各種微影挑戰。

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