MA300 Gen2
SUSSMA300的第二世代是一款適用於300mm與200mm晶圓上的高度自動化光罩對準曝光機平台。它特別是設計用在3D封裝、晶圓凸塊與晶 圓級封裝應用上，但也能運用在其它必須曝光的幾何範圍為5到100微米的技術上。MA300代表了SUSS所生產的新一世代光罩對準曝光機，其設計時即是 要滿足具有大量量產製造環境的高階晶圓廠的需求。
更多下載與聯絡
Product Brochure | 產品規格 |  |
 |  |
©2012 SÜSS MicroTec AG. ALL RIGHTS RESERVED
ECTC 2012
Contact
Product Finder