一般微影製程期間最關鍵的步驟之一就是曝光光阻劑的顯影。顯影劑溫度與顯影時間等參數都會影響關鍵結構的幾何尺寸與其輪廓形狀，因此顯影技術是否適當便成為特別需要注意的重點。由於噴霧式與浸置式顯影具備技術與成本優勢，因此成為 SUSS MicroTec 設備所使用的主要技術。
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