奈米壓印技術

壓印是微電子元件結構複製技術中最新的方法之一。採用這種方法將一個母模或圖樣壓入一種保形材料中，這種材料將按照範本的圖形產生變形，再經過紫外曝光或者熱處理的方法就可以使其成形。與大多數微電子技術採用的傳統紫外曝光相比，壓印技術不只可以複製XY方向的圖形，還可以在垂直方向上壓出臺階和輪廓線的結構。 

壓印微影可以在微米等級進行，此時壓印材料的尺度為微米為單位；也可以在奈米尺度進行，此時圖形和厚度之範圍在幾奈米到一微米之間。壓印技術在微米尺度的一種典型應用是數位相機中微鏡陣列的圖形複製。這種製程採用了一種紫外曝光的壓印材料，甚至一個完整的8英寸晶圓也可以進行一次性壓印，這種印模由帶有剛性支撐的彈性材料製成。在透明印模和下面的層進行對準之後，壓印材料通過紫外曝光進行固化或聚合。這種紫外曝光與傳統的紫外微影類似，但是增加了Z方向圖形化的功能。 

奈米壓印可以複製尺度為數奈米的圖形，這也是目前所用的最小特徵尺寸。對於這種應用，範本採用堅硬的材料製作，例如1英寸見方的石英和金屬，然後把印模壓入待壓印材料中，逐漸地在整個晶圓表面上複製圖形。 

SUSS MicroTec還提供一種叫做基板完整壓印微影（SCIL）的新技術。該技術採用一個含有亞50nm圖形的軟質印模用於圖形的複製。由於印模是軟的，它可以完全依照基板和壓印材料進行無縫接觸，這樣就可以在基板上達到很高的解析度，同時它的深寬比最大可達10：1。對於此製程，我們有提供相關設備、主印模和複製印模，甚至可以與客戶一起開發壓印相關技術。