SCIL
用於大面積的基板完整壓印微影技術
新的SCIL（基板完整壓印微影）技術是用於亞50奈米圖形製造的技術，它運用於小尺寸高解析度硬質印模和解析度低於200nm的大面積軟質印模之間的優勢互補。該技術由Philips Research和SUSS MicroTec共同開發，並可應用於大面積、全場域及基板完整奈米壓印等技術。SCIL採用大面積的軟質印模，具有重複製作亞50奈米圖形的能力。由於接觸面沒有施力，因此可避免印模的變形。在一般室溫下，進行非紫外線的固化技術，深寬比最大可達5：1以上。
SUSS MicroTec的實驗室專用的對準設備，包括MA6和MA8兩種，分別可以對150mm和200mm的基板進行紫外線微影。
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- Nano-Gratings Creation of a wire-grid polarizer by etching of an aluminum layer while using the Sol-Gel imprinted layer as an etch mask. Courtesy Philips Research
- Photonic Crystals 2-D photonic crystal imprinted on GaN and subsequently etched into the material. Courtesy Philips Research
- BPM Bit, Patterned Media for Next Generation HDD SCIL is capable of reproducing < 30 nm features in Sol-Gel layers. Courtesy Philips Research
- Microlenses SEM picture showing the good replication of microlenses. Courtesy Philips Research and SUSS MicroOptics
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