UV-NIL
亞50nm解析度的UV-NIL壓印技術
UV-NIL是一種利用紫外加工的低成本生產型技術，在亞100奈米圖形複製技術中，它已經成為高解析度電子束光刻的一個低成本替代者。UV-NIL技術也許是下一代半導體技術、微光機電系統（MOEMS）、奈機電系統（NEMS）和光電子技術的推動性力量。新的MA/BA8型單面紫外光奈米壓印(UV-NIL)設備在經過簡單的升級後，就可以幫助SUSS的客戶進入奈米技術的世界。SUSS的紫外光奈米壓印(UV-NIL)設備壓印技術可以採用許多種材料，例如紫外固化膠、光阻劑和聚合物等。
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- SUSS MicroTec Logo printed in Amonil MMS4 on a SUSS MA6 Mask Aligner
- Udot out of 160nm wide holes positioned in concentric rings as used for photonics crystals
ECTC 2012
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