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用於薄膜、標準及厚膜光阻的微影技術

由於在成本、靈活性和易用性方面擁有與生俱來的優勢，無論是應用於薄膜或厚膜製程，SUSS的微影設備是最佳解決方案。SUSS MicroTec的微影設備特別適用於標準光阻的製程，及那些厚膜光阻或晶圓表面起伏高達幾百微米的微影應用，也都已經得到了驗證。對於BCB和光敏聚醯亞胺等聚合物材料，特別是當它們應用在MEMS、3D整合應用和晶圓級封裝技術時，SUSS的微影設備也可以展現非常高的良率。

針對大多數製程都受到材料解析度的限制，各光阻劑的廠商也開發了不同的種類的光阻劑。對於這些光阻劑，SUSS的塗佈機及光罩對準曝光機一樣能發揮極佳的性能。