濕式清洗

光罩的清洗,通常採用物理和化學清洗技術相結合的方式來去除顆粒以及有機和無機污染物。 

對於高度發展的 193i 微影和 EUV(極紫外光) 微影技術中所使用的光罩,將高精度兆聲與具有多種不同介質的二元納米噴射技術相結合,這已被證明是一種極有效的去顆粒方法。

此外,創新環保的端紫外光(In-Situ UV)技術為維護結構完整提供了非常廣泛的無化學技術,如表面處理、去光阻、去除有機汙物和最終清洗。如此即可避免結構受損或者光罩的光學性質發生改變。 

特色與優點

  • 高效清潔以及較高的第一清洗產量 (first past cleaning yield)
  • 減少結構損壞
  • 透過端紫外光(In-Situ UV)技術涵蓋各種不同的處理階段
  • 保持解析度
  • 降低成本 (CoO)

處理技術

設備處理技術
MaskTrack® Pro      去光阻、濕式清洗、表面處理、表面保存和淨化
ASx系列 濕式清洗
HMx系列濕式清洗、顯影、蝕刻、去光阻