濕式清洗
我們針對（先進）193i 光學與 EUV 微影光罩所推出的清洗設備套件結合物理與化學清洗技術，以便除去粒子及有機與無機汙染物（光罩正反面）：光罩汙染物會在元件製造期間影響微影設備的正確成像過程。若要推動產業邁向 22nm hp 以下製程世代，則需要有非常高效率的清潔技術。
為了清除粒子，採用搭載各類型清洗液的高精準的超音波搭配奈米噴霧製程，達到絕佳的粒子去除率。瞭解更多
創新的環保使用端紫外光（In-Situ UV）技術提供廣泛的無化學製程功能，例如表面處理；去光阻（resist strip）、清除有機汙染物及最終清洗，可避免破壞圖案或改變光罩的光學特性以保存圖案完整性。
MaskTrack® Pro 結合表面準備、維護與淨化技術後是 SUSS MicroTec 最新一代的清洗系統，可提供全方位清洗方式處理 EUVL 與 193i 所帶來的挑戰的。
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- MegaSonic cleaning of a 6“ optical Cr Binary Photomask
- Cleaning by chemical free Insitu UV induced reactive species in liquid
- High Precision Nano Binary Spray
二手設備
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