MA/BA6

特性與優點

  • 準確與精準的間距設定以得到較高良率
  • 參數儲存可節省設定時間並改善製程一致性
  • 高品質的曝光光學：降低散射的透鏡可提供厚光阻高解析度與最佳的邊緣品質
  • 高強度光源以降低製程時間
  • 智慧型曝光控制單元以監測光源強度與壽命

SUSS公司的MA6光罩對準曝光機，已被認為是從半導體次微米研究到3D微系統生產的標竿。此創新的系統可符合客戶對於精準、可靠度與低擁有成本的需求。

多功能性的MA6可擁有底面對準顯微鏡以獲得準確的背面處理製程。底面對準已經成為了一項重要的特性，特別是在微系統技術上。

所有傳統的黃光微影與正面對準機台，均會擁有目鏡或雙模影像顯微鏡。而除了具有降低散射的曝光光學，以得到最高解析度的標準黃光微影應用之外，MA6光罩對準曝光機也為下列的應用提供特殊的技術：

  • 接合對準
  • 近場視域全像術
  • UV固化製程
  • UV-NIL等

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ma6-1

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