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Neues Kompetenzzentrum für Nanoimprinting in Nordamerika Garching, 18. August 2015 - SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen- und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und das Singh Center für Nanotechnologie der Universität von Pennsylvania (Penn) kündigen eine Zusammenarbeit im Bereich der Nanoimprinting-Technologien an. Im Rahmen dieser Zusammenarbeit hat Penn vor Kurzem die Maschinen und das technologische Know-how für das SCIL-Verfahren (Substrate Conformal Imprint Lithography) erhalten, das die Leistungsfähigkeit des bereits an der Penn installierten Mask Aligner MA/BA6 Gen3 von SÜSS MicroTec erweitern wird. Bei der SCIL-Technologie handelt es sich um ein Nanoimprinting-Verfahren, das die Vorteile der weichen und starren Stempel vereint und so die Reproduzierung großflächiger Strukturen bei einer Auflösung von unter 50 nm ermöglicht. SCIL kommt in vielfältigen Bereichen zum Einsatz, von HB-LEDs und Photovoltaik über MEMS und NEMS bis hin zur Massenproduktion von optischen Gittern für die Gassensorik und die Telekommunikation. Das Singh Center für Nanotechnologie plant den Einsatz der SCIL-Technologie in plasmonischen Bauteilen, Halbleiter-Nanodrähten, in flexibler nanokristalliner Elektronik sowie in biologisch abbaubaren Sensoren und MEMS-Batterien. Darüber hinaus leitet Lithography Manager Dr. Gerald Lopez die Arbeiten des Centers zur Qualifizierung neuer Nanoimprinting-Materialien sowie zur Entwicklung der entsprechenden Prozesstechnologie in enger Zusammenarbeit mit SÜSS MicroTec. Als weiterer bedeutender Bestandteil dieser Zusammenarbeit erhalten die Kunden von SÜSS MicroTec direkten Zugang zu den Reinraumeinrichtungen und den Anlagen der Universität von Pennsylvania, die als Demo-Center für die nordamerikanischen Kunden dient. Durch das enorme Maß an Erfahrung und das hohe technologische Niveau der Penn können die Kunden den gesamten Prozessfluss einsehen, d. h. sowohl den Prägungsprozess selbst als auch die nachfolgenden Schritte bis hin zum fertigen Gerät. "Wir freuen uns über die Zusammenarbeit mit SÜSS MicroTec in der Entwicklung von Anwendungen mit SCIL. Indem wir unsere Stärken in der Mikro- und Nanofabrikation vereinen, sind wir in der Lage, unseren Forschern einzigartige Nanoimprinting-Leistungen zu bieten", erklärten Professor Mark Allen, Scientific Director des Singh Centers für Nanotechnologie, und Alfred Fitler Moore, Professor of Electrical & Systems Engineering. "Diese industrielle Partnerschaft ist eine Bereicherung für uns, denn so können wir besser demonstrieren, inwiefern die Nanoimprinting-Technologie als Katalysator für die Forschung dienen kann und wie sich dies auf den Unternehmenssektor übertragen lässt." "Wir sind über die Zusammenarbeit mit dem Singh Center für Nanotechnologie überaus erfreut. Die Arbeit des Centers wird erheblich zur Kommerzialisierung dieser Nanotechnik für großflächige Strukturen beitragen und damit die Anwendung in der Serienfertigung beschleunigen. Des Weiteren profitieren unsere Kunden nicht nur von der möglichen Nutzung der Einrichtungen der Penn und den Einblicken in den gesamten Prägungsprozess, sondern auch von dem Wissen der Universität, denn es steht ihnen ein erfahrener Partner zur Seite", so Ralph Zoberbier, General Manager Exposure & Laser Processing bei SÜSS MicroTec. Über SÜSS MicroTec Über die Universität von Pennsylvania Kontakt: SÜSS MicroTec AG Franka Schielke Schleissheimer Strasse 90 85748 Garching, Deutschland Tel.: +49 (0)89 32007-161 Fax: +49 (0)89 32007-451 Email: franka.schielke@suss.com Ende der Pressemitteilung Emittent/Herausgeber: SÜSS MicroTec AG Schlagwort(e): Forschung/Technologie 2015-08-18 Veröffentlichung einer Pressemitteilung, übermittelt durch DGAP - ein Service der EQS Group AG. Für den Inhalt der Mitteilung ist der Emittent / Herausgeber verantwortlich. Die DGAP Distributionsservices umfassen gesetzliche Meldepflichten, Corporate News/Finanznachrichten und Pressemitteilungen. Medienarchiv unter http://www.dgap-medientreff.de und http://www.dgap.de |
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