Anlage zur Stempelherstellung

NIL-SFT12 Serie Anlage zur Herstellung von Stempeln

Die Anlage der Serie NIL-SFT 12 ermöglicht die schnelle und präzise Herstellung von hochauflösenden Imprint-Stempeln mit hervorragender Strukturierungsgenauigkeit. In Verbindung mit den Anlagen / Maschinen von SUSS bietet die NIL-SFT12-Serie eine skalierbare Nanoimprint-Fertigung, hohe Overlay-Genauigkeit, enge CD-Kontrolle und niedrige Kosten pro Stempel. Sie sind für die Produktion konzipiert und gewährleisten eine hohe Ausbeute und eine nahtlose Integration in industrielle Imprint-Workflows.

2602_NILSFT_Iso.png

Hochwertige Stempelherstellung in Rekordzeit

Die NIL-SFT12-Serie ermöglicht eine erhebliche Verkürzung der Verarbeitungszeit. Dank optimierter UV-Bestrahlungsstärke und hervorragender Lichtgleichförmigkeit über die gesamte Belichtungsfläche wird die Verarbeitungszeit von Stunden auf Minuten reduziert. Das System wurde für die Kompatibilität mit einer breiten Palette von UV-härtbaren Materialien entwickelt und gewährleistet eine hohe Prozessstabilität, minimiert die Fehlerbildung und unterstützt die reproduzierbare Herstellung von Stempeln in hoher Qualität.

Ebenheit von Anlagen der nächsten Generation

Deutlich verringerte Ebenheitstoleranzen ermöglichen eine neue Klasse von ultraflachen Toolings. Das Ergebnis sind reduzierte Imprint-Variationen und eine geringere Defektdichte. Diese Toolings basieren auf fortschrittlichen Materialien, Präzisionsfertigung und einem qualifizierten Lieferantennetzwerk und liefern stabile, reproduzierbare Leistungen auf Waferebene.

Geringere Betriebskosten durch eigenständige Herstellung von Stempeln.

Eine spezielle Lösung für die Herstellung von Stempeln macht es überflüssig, hochwertige Imprint-Systeme während der Stempelproduktion zu belegen. Dadurch werden kritische Tool-Kapazitäten frei, die Gesamtauslastung des Equipments wird verbessert und die Betriebskosten für den gesamten Nanoimprint-Fertigungsfluss werden erheblich gesenkt.

Anlage zur Herstellung von Stempeln für 12-Zoll-Substrate.

Dieses System wurde für die Imprint-Lithografie in großem Maßstab entwickelt und erweitert die bewährten Konzepte der 200-mm-NIL-SFT8-Serie auf 300-mm-Wafer. Es kombiniert Zuverlässigkeit, Skalierbarkeit und Präzision, um die Herstellung von Stempeln mit hohem Durchsatz und hoher Wiedergabetreue für fortschrittliche Nanoimprinten-Anwendungen zu unterstützen.

Anspruchsvolle Stempel für jeden Maßstab

Hauptmerkmale der NIL-SFT12 Serie

Die Vorteile der ultraflachen, originalgetreuen Stempelherstellung werden durch sorgfältig entwickelte Systemfunktionen unterstützt. Entdecken Sie die technischen Highlights, die eine präzise, durchsatzstarke und zuverlässige Herstellung von Nanoimprinten-Stempeln ermöglichen.

Hervorragende Ebenheit des Chucks

Mit einer überragenden Ebenheit des Chucks von bis zu 2 µm gewährleistet das System einen gleichmäßigen Kontakt und ein gleichmäßiges Aushärten über die gesamte Stempelfläche. Dadurch werden häufige Defekte wie Non-Fill und Lufteinschlüsse direkt reduziert, was zu einer höheren Ausbeute und gleichbleibend zuverlässigen Ergebnissen führt.

Hohe Intensität

Mit einer Leistung von bis zu 200 mW/cm² und einer Gleichmäßigkeit von mehr als ±5 % ermöglicht das System ein schnelles und präzise kontrolliertes Aushärten. Im Gegensatz zu herkömmlichen Quecksilberdampflampen liefert es gleichmäßige Ergebnisse ohne Hotspots oder ungleichmäßige Belichtung und verbessert so die Prozesssicherheit und die Qualität der Stempel.

Duale UV- und thermische Stempelherstellung möglich

Dieses flexible System unterstützt sowohl die UV- als auch die thermische Herstellung von Stempeln und verfügt über erweiterbare Module zur Anpassung an sich verändernde Prozessanforderungen. NIl-SFT12 rationalisiert den Betrieb, reduziert die Stellfläche der Anlagen / Maschinen und ermöglicht nahtlose Übergänge zwischen den Prozesstypen.

Herunterladen

Suchen Sie nach weiteren Details? Bitte klicken Sie unten, um das technische Datenblatt und unsere Produktpräsentation mit ausführlichen Produktinformationen herunterzuladen.

Verwandte Produkte

Entdecken Sie unser Portfolio an Imaging-Lösungen

MA12 Gen3

Das halbautomatische System für die Maskenjustage von Wafern bis zu 300 mm für fortschrittliche Verpackungs-, MEMS- und Imprint-Lithografieanwendungen.
Mehr erfahren
MA12_Gen3-1600x1200.png
halbautomatisch

MA/BA Gen4

Das neue Plattformsystem des halbautomatischen Masken- und Bond-Aligners von SUSS: Die beiden Anlagentypen MA/BA Gen4 und MA/BA Gen4 Pro unterscheiden sich in der Konfiguration und sind für Standardprozesse oder fortgeschrittene und High-End-Prozesse ausgelegt.
Mehr erfahren
MABA_G~1.PNG
halbautomatisch

UV-SFT-Reihe

Kompakte Anlage zur Herstellung von Stempeln für die schnelle und präzise Produktion von hochwertigen Arbeitsstempeln für die Mikro- und Nanoimprinten-Lithographie.
Mehr erfahren
UV SFT Series
halbautomatisch