投影扫描光刻机

以精确对准和高精曝光镜头闻名于世的 SUSS MicroTec 接近接触式光刻机产品组合以独特的解决方案进一步充实投影光刻领域：投影扫描光刻平台 DSC 集全场光刻技术与投影光刻成像性能的所有优点于一身，从而成为极具成本效益的投影步进机替代方案 。设备配有一个全场掩模和一个宽带投影镜头，以独特的连续扫描模式对衬底进行曝光。

本平台适用于先进封装，尤其是圆晶级芯片尺寸封装和倒装芯片封装，以及三维集成、MEMS 和显示器。