MA/BA Gen4-Series マスク＆ボンドアライナー
研究および小規模生産向けのコンパクトなアライナプラットフォーム
MA/BA Gen4シリーズではSUSS MicroTecsのセミオート式のマスクアライナ/ボンドアライナを代表する新世代型の最新式のプラットフォームシステムが採用されています。このMA/BA Gen4シリーズは標準仕様の新しいプラットフォームであり、高度なハイエンドプロセス向けに拡張されたモデルMA/BA Gen4 Proシリーズとは区別されます。
MA/BA Gen4シリーズでは使用するウェハ・基板の最大サイズによって、MA/BA6 Gen4またはMA/BA8 Gen4の2種類から選択できます。この装置はよく考慮されたエルゴノミクス性能、操作しやすいソフトウェア設計、費用効率の向上、小設置スペースが特徴であり、研究開発 および小規模生産での使用に最適な装置です。
SUSS MicroTecs MA/BA Gen4シリーズは、学術研究、MEMS / NEMS、3次元積層、化合物半導体の分野における全面一括露光リソグラフィの新しい業界基準を確立します。この装置はリソグラフィ機能のみならず、ボンドアライメント、フュージョン接合、SMILEインプリントなどのプロセスにも対応しています。
MA/BA Gen4シリーズで開発したプロセスを大規模生産に移行する場合は、簡単に自動式マスクアライナに移行することができます。
ハイライト
- 優れたプロセスパフォーマンス
- 親しみやすいソフトウェアユーザーインターフェイス
- 考慮されたエルゴノミクス性能
- 低CoO
- 小設置スペース
- Face to Face式 顕微鏡
高精度な装置による理想的なプロセス結果の実現
高度な自動化に対応したMA/BA Gen4シリーズは、優れたプロセス結果をもたらします。露光量一定モード、露光時間の自動制御、オートアライメントなどの機能は、プロセスパラメータの最適化に役立ちます。さらに、MA/BA Gen4シリーズには高品質な光学システム、MO Exposure Opticsが標準装備されており、最適な露光条件を満たすことで最良のプロセス結果が得られます。長年培われきたアライメントメカニズムはより高い位置合わせ精度を実現します。表面 及び 裏面アライメントユニット (TSA と BSA) の特殊な構造によって、アライメント後のTSA顕微鏡の大きな動作が必要なくなり、それによるアライメント後の振動もアライメントに影響しなくなりました。
高い操作快適性
エルゴノミクスを考慮されたレシピ編集、データログ、ユーザレベル設定などの機能によって、オペレータに対する負担が軽減されるとともに、エラーとなる原因が最小限に抑えられます。MA/BA Gen4プラットフォームでは、高品質な顕微鏡およびデジタルカメラを使用することで、モニタ内で広視野の且つ高画質のアライメント映像を観察することができ、位置合わせプロセスが大幅に容易になります。
環境保護と作業員への安全性の向上
MA/BA Gen4シリーズにエネルギー効率が優れたLED光源オプションを追加すると、装置の運用費用およびメンテナンス費用の低減だけでなく、作業員の安全性の向上および環境保護にも繋がります。水銀ランプの廃棄処理にかかる費用も不要となります。また、UV光の保護、安全ロック、挟まれ防止機構などの安全措置も考慮されており、厳しい安全仕様に対応しています。
費用の低減効果
MA/BA Gen4シリーズにて低CoOのカギを握るのは、小さい設置スペースと優れた汎用性です。さらに、エネルギー効率に優れたLED光源などのオプションを使用することで、運用コストおよびメンテナンスコストを大幅に節約できます。極めて頑丈な装置設計と構造、手の届き易さ、オペレータへの低負担が考慮された操作部、部品交換の容易さ、LED光源およびSUSS MO露光光学系といった要素も、MA/BA Gen4プラットフォームでのメンテナンス費用の低減に貢献します。さらに、現場で不具合が見つかった際も、ネット接続による工場からの遠隔操作によってエラー内容を詳細を把握して早期改善することができ、コスト低減につながります。
ウェハ・基板同士のアライメント、フュージョン接合、インプリントリソグラフィなどの追加機能もオプションとしてお選び頂けます。
