現像

多くのフォトリソグラフィプロセスにおける最も難しい工程のひとつは、露光したフォトレジストの現像です。この工程で使用する温度や現像時間などの様々なパラメータによって、パターンの形状やプロファイルが決まります。そのため、現像プロセスの選択とその各種パラメータの設定は、特に慎重に行う必要があります。SUSS MicroTecでは、技術的および経済的なメリットが高い、スプレー現像方式とパドル現像方式の技術を主に使用しています。

パドル現像方式

パドル現像方式

このプロセスでは、露光された基板に所定量の現像液を塗布し、適度に回転させて配分します。その際、現像液の表面張力によって、基板上に現像液が溜まった状態 (英語で「Puddle」) になります。現像時間が経過した後、現像液は高速回転によりウエハから飛ばされます。そして、脱イオン水でウエハを洗浄し、再び高速回転によって乾燥します。この手法のメリットは、現像液が少量しか必要でないこと、そして良好な現像結果が得られることです。

パドル現像方式は、大量の現像済みフォトレジストを取り除く場合や、起伏が高いパターンによって現像液の入れ替えが妨げられる場合など、現像液の飽和時には適していません。このような場合には、多段式パドル現像方式またはスプレー現像方式が使用されます。

特色與優點

  • M化学品用量低

全自動設備

手動設備

* 本設備提供一系列濕化學過程的額外應用。

スプレー現像方式

スプレー現像方式

在噴霧式顯影期間曝光的基板會以低速旋轉。曝光區域會不斷覆蓋以剛噴灑上的顯影劑以免飽和。相對於浸置式顯影,噴霧式顯影具有可用於厚膜光阻以及進行大範圍顯影的優點。之後使用去離子水沖洗並持續乾燥旋轉便完成整個顯影過程。

特色與優點

  • 即使於厚膜光阻下亦能對整個晶圓均勻顯影。

全自動設備

手動設備

* 本設備提供一系列濕化學過程的額外應用。

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