印模与基板对准设备

UV-SFT 系列 印模与基板对准设备

UV-SFT 系列是 SUSS' 的紧凑型台式设备，用于快速、精确地制作用于微和纳米压印光刻的高质量工作印模。它专为补充 MA/BA Gen4 系列 8 英寸掩模对准机而设计，可为 LED、MEMS/NEMS、微光学、AR 和光电传感器领域的研发和大批量生产提供一致的结果。

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UV SFT Series

以精确性和多功能性增强研究能力

MJB4 将成熟的光刻性能与工艺多功能性相结合，适用于研究和小批量生产。该系统支持脆性材料和 UV-NIL，其亚微米分辨率和快速基底转换使其成为一种具有成本效益的解决方案。 允许 探索具有可靠结果的新应用。

每道工序的精度

精确的对准和高质量的结果适用于广泛的应用，灵活的曝光模式，包括软曝光、硬曝光和真空曝光，结合高分辨率光学系统和 SUSS' 显微镜，可提供从 2 微米到小于 0.5 微米的分辨率。

设计具有成本效益

MJB4 专为大学和小规模生产而设计，兼具经济实惠和稳定的性能。其紧凑的设计、快速的设置、配置升级和可靠的运行确保了快速的投资回报，使该系统成为灵活的研发实验室具有成本效益和灵活性的选择。

多才多艺的平版印刷先锋

作为首批掩模对准机之一，MJB4 平台在研究和小批量生产领域树立了行业标准。该系统配备了最先进的技术和多种配置模式，至今仍是全球小型基板和部件的参考工具。

操作简便舒适

MJB4 具有直观的界面和简单明了的控件，用户使用起来非常友好。自动楔形误差补偿（WEC）和用于平版印刷工艺的集成模拟软件简化了操作，最大限度地减少了设置时间，并保证了最佳加工效果。

UV-SFT 印模与基板对准设备的主要特点

适用于任何规模的精密印模与基板对准

UV-SFT 将精确的工程设计与灵活的加工相结合，可实现卓越的印模制造UV-SFT 可为微压印和纳米压印应用提供质量、效率和工艺可靠性，支持从研发到 HVM 的无缝集成。

出色的光照均匀性

通过微透镜板，MO 曝光光学系统® 实现了全场曝光的光照均匀性和更大的工艺窗口，从而提高良率。远心照明使曝光光与灯源分离，从而节省了设置和维护时间，同时确保在灯管的整个使用寿命期间获得一致的结果。

对准精度，广泛灵活性

MJB4 配备了高精度对准平台，提供顶面对准或红外对准，并可选择单场或分场显微镜，以获得清晰的图案识别和精确的结果。该系统可为非标准基底或 UV 纳米压印光刻进行可选升级，是微机电系统、光电子、混合材料和易碎 III-V 材料的理想之选。

适应性强的设备

MJB4 与您的研究需求同步增长：MJB4 拥有一个大型设备库，可处理从 5x5 mm 到 100 mm 晶圆的各种形状和厚度（最大厚度为 4 mm）的工件，具有最大的灵活性。还提供专用设备，用于处理异形基板和其他非标准工件。

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