涂胶机和显影机的解决方案

ACS200 Gen3 TE

ACS200 Gen3 TE 以 ACS200 Gen3 平台为基础，是专为 100 mm 至 200 mm 晶圆设计的增强型模块化系统。

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自动化

ACS300 Gen2

用于 200 和 300 毫米晶圆精密光刻加工的高级一体化解决方案。

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自动化

ECD8

适用于最大 200 mm 晶圆的多功能涂布机或显影液机，既可用于研发，也可用于批量生产。

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半自动

ACS200 Gen3

适用于 100 - 200 毫米基底的自动涂布平台，具有无与伦比的多功能性，适用于研发和大批量生产。

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自动化

AS8

用于研发和小批量生产直径达 200 毫米或 300 毫米的基底和边长达 6 英寸的方形基底的理想设备。

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半自动

LabSpin 系列

专为研发和实验室环境设计的新一代手动旋涂机和显影液。

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手动

MCS8

适用于实验室、初创企业和小型生产企业的创新型实验室簇，在占地面积最小的洁净室中提供 500 多种功能。

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手动

RCD8

用途广泛的涂布机和显影液，适用于最大 200 毫米的晶圆，适合研发和小规模生产。

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半自动

HP8

灵活的研发和小规模涂层解决方案，适用于 200 毫米基底，加热快速、均匀，控制直观。

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手动