Belacker und Entwickler für fortschrittliche Wafer

Lösungen für Belacken und Entwicklen

Vertrauen in jeden Prozess: Die Coater & Developer-Lösungen von SUSS decken alle Anforderungen der Waferbearbeitung ab. Mit gleichmäßigen Schichten, präziser Entwicklung und breiter Substratvielfalt steigern sie die Ausbeute, senken die Betriebskosten und liefern zuverlässige Ergebnisse für fortschrittliche Back-End-Anwendungen - von modernster Forschung und Entwicklung bis hin zur Großserienproduktion.

 

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Vielseitige Spitzenleistungen

Von dünnen bis zu dicken Resists: SUSS-Systeme sorgen für gleichmäßige Schichten, schnelle Umrüstungen und zuverlässige Verarbeitung in allen Produktionsbereichen.

Top-Produkte

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ACS200 Gen3 TE

Der ACS200 Gen3 TE baut auf der ACS200 Gen3-Plattform auf und ist ein erweitertes und durchsatzstarkes System, das für 100- bis 200-mm-Wafer ausgelegt ist.
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vollautomatisch

ACS300 Gen2

Die Premium-Komplettlösung für die anspruchsvolle photolithographische Bearbeitung von 200- und 300-mm-Wafern.
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vollautomatisch

ACS200 Gen3

Automatisierte Beschichtungsplattform für 100 - 200 mm Substrate mit unübertroffener Vielseitigkeit für F&E und Großserienproduktion.
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vollautomatisch

ECD8

Der vielseitige Beschichter oder Entwickler für Wafer bis zu 200 mm für F&E und Serienproduktion.
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halbautomatisch

AS8

Das ideale Werkzeug für Forschung und Entwicklung sowie für die Herstellung von Kleinserien von Substraten mit einem Durchmesser von 200 mm bis zu 300 mm und von quadratischen Substraten mit einer Kantenlänge von bis zu 6".
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halbautomatisch

LabSpin-Serie

Manueller Spin Coater und Entwickler der nächsten Generation für Forschung und Entwicklung in Laborumgebungen.
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Manuell

HP8

Die flexible Lösung für Forschung und Entwicklung sowie für die Beschichtung von 200-mm-Substraten mit schneller, gleichmäßiger Erwärmung und intuitiver Steuerung.
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Manuell

MCS8

Der innovative Labcluster für Labore, Start-ups und kleine Produktionen mit über 500 Funktionalitäten auf kleinstem Raum.
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Manuell

RCD8

Äußerst vielseitiger Belacker und Entwickler für Wafer bis zu 200 mm für Forschung und Entwicklung sowie für die Kleinserienproduktion.
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halbautomatisch

SUSS Beschichter & Entwickler

Wichtigste Vorteile

Modernste Technologie

Hochwertige Ergebnisse: Konsistente Schichtgleichmäßigkeit und präzise Entwicklung minimieren Abweichungen und Nacharbeit, was sich direkt in einer höheren Waferproduktion, verbesserter Kosteneffizienz und hoher Leistung bei modernen Halbleiteranwendungen niederschlägt.

Schnelle Verarbeitung

Beschleunigen Sie die Produktion, behalten Sie die Präzision: Kurze Zyklen und optimierte Prozesse sorgen für einen höheren Durchsatz, konsistente Ergebnisse und eine flexible Reaktionsfähigkeit, um die sich schnell ändernden Marktanforderungen zu erfüllen.

Systeme für jede Größenordnung

Modulares Design, flexible Konfigurationen: SUSS-Plattformen eignen sich für jedes Substrat oder Material, von kompakten Laborsystemen bis hin zu kompletten Produktionsclustern. Sie lassen sich nahtlos von F&E-Versuchen bis hin zur Großserienproduktion einsetzen und bieten skalierbare Leistung und dauerhaften Wert.

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Intelligente Messtechnik für höchste Präzision

Konsistente Beschichtung, optimale Ausbeute: Integriert in SUSS ACS200/300 liefert das TM300-Modul automatische Filmmessungen und Prozesskontrolle in Echtzeit für stabile Ergebnisse bei hohen Stückzahlen.

Kontrolle der Filmdicke

Die Inline-Interferometrie gewährleistet die Präzision der gesamten Wafer, eine stabile Beschichtung und eine geringere Variabilität.
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Prozesssteuerung im geschlossenen Regelkreis

Die Echtzeitkontrolle sorgt für konsistente Ergebnisse, weniger Ausfallzeiten und höhere Erträge in der gesamten Produktion.
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