光掩模加工平台
ASx 系列 光掩模加工平台
最大限度地提高良率和质量：ASx 系列是全自动光掩模加工平台，可在一个系统中完成 250 纳米到 65 纳米晶圆上的高级烘烤、光刻胶剥离与清洗、烘烤与显影加工。
HMx 系列
半自动化解决方案，适用于光罩和高难度半导体应用的中试和小批量生产。
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性能卓越，设计紧凑
ASx 系列集行业领先的精度、最高的可靠性和性能于一身，能够应对在 248 纳米和 193 纳米光刻工艺下对掩膜进行无缺陷处理的严峻挑战。所有这些都具有卓越的清洁效率和无与伦比的拥有成本。
行业领先的占地面积
占地面积小：ASx 系列占地面积为 1200 × 1200 毫米，能够最大限度地利用空间，降低拥有成本，同时不影响优质的处理性能。
工程精度与卓越制造的完美结合
ASx 系列 光掩模加工平台的主要特点
ASx 系列通过智能温度控制、自动流程优化和缺陷最小化显影液技术，提供毫不妥协的技术性能，从而将复杂的光掩模加工转化为一致的行业领先结果。
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